唐山纳源微波热工仪器制造有限公司

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多功能CVD系统
产品详情

技术参数:


型号/model

MFCVD-Ⅰ/ MFCVD-Ⅱ

微波特性

2450MHz(220V);功率:4KW,分档和/或无极连续可调

谐振腔

304不锈钢谐振腔&专用波导设计避免电子回轰

加热方式

4种:微波等离子、纯微波、~传统电加热、混合加热

双温区结构

上部等离子区或加热区、下部样品台加热区

样品腔材质

石英管:微波等离子工作模式;石英管&刚玉管:纯微波、传统电加热、混合加热模式

样品腔直径/mm

Φ45、Φ60、Φ100石英样品腔(1100℃)可选;Φ45、Φ60刚玉样品腔(1500℃)可选

样品腔/加热区长度

样品腔:100~300mm可选;加热区:100mm或以上可选

样品台温度

室温-1200℃,更高温度可选;控温精度:±1℃/±2℃;触摸屏智能控制

最大升温速度

>200℃/min(微波等离子工作模式除外),可在0~最大升温速度之间编程设定自动控制

质量流量控制系统

2套,七星华创(真空保护阀门后置,匹配真空模式);精度:0.8%;最大耐压:1MPa;控制响应时间:10ms;气体类型可选;计算机及控制软件,内置&实时显示&保存生长参数

超洁净真空系统

3Pa量级,涡旋泵+数字真空计; 10-3Pa量级,涡旋泵+分子泵+复合真空计

端口&气路

不锈钢KF50法兰接口,气柜、气路及阀门等

Ⅰ型结构

卧式:气流方向与样品台样品表面平行

Ⅱ型结构

立式:气流方向与样品台样品表面垂直

用途

该系统既可用作传统化学气相沉积设备,又可用作微波能化学气相沉积设备,同时又是微波等离子化学气相沉积系统。可用于各种功能薄膜的生长,例如:石墨烯、金刚石、各种半导体材料薄膜、磁性薄膜,等等。

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Ⅰ型结构CVD系统

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分子泵机组

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Ⅱ型结构CVD系统

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